國產(chǎn)離子色譜用除氣裝置研制主要技術(shù)要求：) 孔徑：≤.μ；) 氣體通量：≥./（·）；) 氯化鈉截留率：≥.%；) 表觀接觸角：＞o；) 耐壓性能：≥（中空膜外側(cè)為水溶液，內(nèi)側(cè)為氣體）；) 殼體外形尺寸（長×寬×高）：≤××；) 流量適用范圍：.-/；) 累積γ輻照計量：≥。國產(chǎn)離子色譜用除氣裝置研制周期：個月。霍松岷：項目詳情：國產(chǎn)離子色譜用除氣裝置研制
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